近紅外光譜儀包括一個光學平臺，可大大減少雜散光并提高機械和溫度穩定性。這個新的光學平臺具有雙內置模式消除器和多級復合拋物面反射鏡，因此雜散光減少至0.04％，是標準光譜儀的2.5倍。除了顯著改善雜散光之外，這種新的光學平臺還將光譜儀的機械強度提高了10倍以上，從而使其對機械變形和溫度變化的敏感性降低。

　　近紅外光譜儀的低雜散光特性使其特別適合需要測量高吸光度的應用，例如高化學濃度，高光密度光學組件和長光程測量。這種新型的光學平臺和光譜儀既適用于OEM應用又適用于單儀器應用。該光譜儀具有較低的雜散光（400nm下為0.015％）效果，并且在可見光范圍（360-825nm）內具有良好的顏色測量效果，從而提高了低照度下測量的靈敏度和處理效果。

　　1、具有良好的熱穩定性，其性能可與科研級光譜儀相媲美，可以選擇以滿足各種應用挑戰。

　　2、使用變節距凹面光柵。這種設計使光譜系統更加有效。中心光柵線密度為550（+/-2）標線/mm，標稱火焰波長為400nm。

　　3、配備的凹面光柵非常有助于提高其熱穩定性。在較寬的溫度范圍內進行測量。結果，幾乎沒有波長漂移，并且峰形具有良好的保留效果。因此，在要求低雜散光和熱穩定性的精密測量，熒光測量或吸光度測量中。

　　4、近紅外光譜儀測量能力適用于要求寬測量范圍，低雜散光，高處理效率和良好熱穩定性的各種應用：

　　（1）大氣中的痕量氣體成分，

　　（2）光學致密物質溶液的吸光度，

　　（3）LED/激光和其他光源的精密測量，

　　（4）組織醫學輻射和生物介質的測量，

　　（5）固體表面熒光的測量溶液和粉末中的反向散射/熒光溶液。

　　希望上述內容能夠幫助大家更好的了解本光譜儀。